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半導體超純水設備在半導體生產中主要用于清洗硅片。少量水用于配制藥劑、硅片氧化的蒸汽源、某些設備的冷卻水、電鍍溶液的配制。產品的質量與產量密切相關。水中的堿金屬(K、Na等)會使絕緣膜耐壓不良，重金屬(Au、Ag、Cu等)會降低PN結的耐壓力，III族元素 (B、Al、Ga等)會使N型半導體特性惡化，V族素(P、As、Sb等)會使P型半導體特性惡化。細菌高溫炭化水中的磷(約為灰分的20%~50%)會使p型硅片局部變為N型硅片，導致器件性能下降。水中的顆粒，包括細菌，如果附著在硅片表面，會導致短路或性能惡化。可見，超純水在半導體行業的必要性。

　　隨著半導體工業的不斷發展，對清潔水的電導率、離子含量、TOC、do和顆粒物的要求越來越嚴格。由于超純水在許多指標上對半導體的要求很高，因此半導體行業的超純水與其他行業的用水要求不同。半導體行業對超純水有嚴格的水質要求。目前，半導體所用的超純水需要達到的水質標準為：我國電子工業部電子級水質技術標準(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準)，我國電子工業部高純水水質試行標準，國內外大規模集成電路水質標準等。

產品介紹：

Onyx的EX-UPW-TOC產品主要由高透185nm的紫外燈管，高輸出石英套管，內外電解拋光的一體化紫外反應器，高度精確的UV強度傳感器及智能自控系統組成。

185nmUV主要用于生產超純水過程中去除TOC有機物，降低TOC出水指標，使出水滿足美國ASTM超純水水質標準及電子工業部電子級水水質標準。

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電子級水UV-TOC控制系統

半導體超純水設備產品規格：

處理水量	2~60m3/h
燈管配置	12~48支
燈管類型	85w/155w(185/254nm雙波段)
石英套管	T＞80%@185nm
鎮流器	50~100%輸出功率可調
反應器材質	316L
潔凈等級	內外電解拋光、表面光潔度10以上（≤Ra0.2）
法蘭尺寸	DN50~DN200
額定壓力	PN10
控制柜等級	IP55，碳鋼噴塑
控制系統	本地/遠程、觸摸屏、連接SCADA系統
UV強度傳感器	分辨率0.01mw/cm2

集成電路超純水應用領域：

1. 半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路板

2. 電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗

3. 電子管生產、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液

4. 黑白顯像管熒光屏的生產、波殼清洗、沉淀、洗膜、管頸清洗

5. 液晶顯示器的生產、屏面清洗

6. 集成電路生產中高純水清洗硅片

7. LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏的生產

半導體超純水設備

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