新污染物高級氧化,深度氧化技術原理UV/O3/H2O2是常見的一種后置高級氧化工藝，此方法利用UV發出的高強度高能量紫外線，激發H2O2及O3產生具有*氧化性的羥基自由基

深度氧化技術 常用于生物處理的前處理。一般是在催化劑作用下，用化學氧化劑去處理有機廢水以提高其可生化性，或直接氧化降解廢水中有機物使之穩定化。其基礎在于運用電、光輻照、催化劑，有時還與氧化劑結合，在反應中產生活性很強的自由基，再通過自由基與有機化合物之間的加合、取代、電子轉移、斷鍵等，使水體中的大分子難降解有機物氧化降解成低毒或無毒的小分子物質，甚至直接降解成為CO2和H2O，接近*礦化目前的該技術主要包括化學氧化法、電化學氧化法、濕式氧化法、超臨界水氧化法和光催化氧化法等。　

安力斯UV/O3/H2O2深度氧化技術原理：

UV/O3/H2O2是常見的一種后置高級氧化工藝，此方法利用UV發出的高強度高能量紫外線，激發H2O2及O3產生具有*氧化性的羥基自由基，羥基自由基可將難降解有機物質氧化，發生斷鏈、開環等多種反應，能有效降低COD，同時具有消毒的效果，且不會造成二次污染，也不需要后續處理。

安力斯UV/O3/H2O2氧化系統閉環控制：

1.臭氧控制系統：臭氧在線濃度監測、水中臭氧濃度監測、尾氣殘余臭氧濃度監測系統

2.UV控制系統：根據臭氧、雙氧水投加濃度，實時調節系統UV強度

3. H2O2控制系統：通過計量泵及流量調配系統實現對雙氧水的精確投加，避免殘余H2O2對出水COD的干擾。

安力斯UV/O3/H2O2氧化系統設計：

1.UV光催化模塊

2. H2O2間及投加系統

3.臭氧發生及投加系統

4.高級氧化反應池

5.在線監測系統